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儀器中文名稱:脈沖激光沉積系統(tǒng)
儀器所在城市: 長沙市
儀器型號規(guī)格: PLD-5000
生產(chǎn)廠商: 美國PVD公司
國別: 美國
購置日期(年): 2009-11-1
使用日期(年): 2009-12-1
主要技術(shù)指標: 真空度可達10-4Pa；基片加熱溫度可達800℃；基片和靶材可自轉(zhuǎn)；四靶位；配備等離子槍
主要附件及功能: 該設(shè)備可用于制備5英寸以內(nèi)各種大面積單層及多層薄膜材料，特別適用制備多組分的電子信息等功能薄膜材料。
本單位該儀器主要應用領(lǐng)域：材料
儀器負責人: 肖燕
電話: 18975134808
E-mail: [email protected]
檢測項目： 制備5英寸以內(nèi)各種單層及多層薄膜材料，特別適用制備多組分的電子信息等功能薄膜材料。
收費標準： 面議